第四代半导体材料5N级氮化铝粉体技术

发布时间:2026-08-20 来源:鄂尔多斯科技成果转化平台
  • 持有单位:内蒙古科学技术研究院
  • 联系方式:
  • 技术应用领域:新材料
  • 技术成熟度:中试
  • 转让方式:技术服务
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  • 成果状态:成果发布
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梁小进:15229365531
李敬宇:19139288038

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成果介绍

应用于1.6T光模块、AI超算、半导体基板 及封装等高性能绝缘导热与第四代超宽禁带半导体场景,全 球规模超万亿元。当前高性能导热氮化铝价格是氧化铝35倍且无法量产,传统工艺成本高(>200元/kg)、纯度低, 无法工业化量产5N级粉体。本项目首创“气泡法“新技术, 借鉴转炉底吹原理在铝液中底吹氮气原位生成氮化铝,综合 成本直降80%至3050元/kg,全球唯一可工业化量产5N级(>99. 999% )粉体, 氧含量低至 0. 001% , 能耗降 90% 。 该技突破欧美 ” 卡脖子 “,将氮化铝市场扩大十倍以上, 助力我国成为新一代半导体材料强国。 进展方面:巳获5项发明专利、 1项实用新型, 工业化中试结束即将投产, 已为多家下游送刻, 本期建设年产 100 吨产线。

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