面向先进制程中的原子层刻蚀（ALE）及薄膜沉积（ALD、PECVD等）工艺，针对原子级精度控制的工艺需求，提供AI辅助的原子级表面反应路径模拟与关键工艺参数优化服务。利用MLFF模拟前驱体分子在衬底表面的吸附、扩散、反应及成核生长过程，预测沉积/刻蚀速率与薄膜均匀性，加速新型前驱体分子的筛选与工艺配方的数字化开发。意向对接半导体材料供应商、设备厂商工艺部门及芯片制造企业先进工艺R&D团队。